随着科技进度，我国芯片制造行业飞速发展，行业技术日新月异，产品规模持续走高。芯片在制造工艺中使用各种酸液清洗、刻蚀芯片等过程中产生HF、HCl、硫酸雾等酸性气体。对于芯片厂企业在生产工艺过程中产生的腐蚀性气体（如酸、碱性废气）的治理，目前大多企业采用液体吸收法治理。