随着信息化时代的到来，半导体行业也在迅速发展，半导体厂给社会带来的经济效益及就业率有目共睹的，但随之而来的还有对大气的污染。在半导体生产中使用的清洗剂、显影剂、光刻胶、蚀刻液等溶剂中含有大量有机物成分，在制造工艺过程中，这些有机溶剂大部分通过挥发成为废气排放。其废气的主要成分是VOCs，同时废气中还混合了HCl、氨、HF等污染物。